光刻機原理 進來看看
1、光刻機制作芯片的過程,基本和“沖印照片”一樣。假設拍的是風景,膠片上會有曝光痕跡,先要在暗室裏顯影,讓風景在膠片上顯示出來。然後在紅光下通過放大機,把膠片上的風景投射到相紙上,讓相紙曝光。再通過相紙的顯影、定影、烘乾得到最終的照片。除了風景之外,“照片沖印”需要有膠片,有光源、放大機、相紙。
2、對光刻機來説,所謂“風景”就是設計好的集成電路圖(IC),“膠片”就是一塊石英板(光罩),用來記錄集成電路圖,“相紙”就是硅晶圓,“放大機”就相當於光刻機。
3、所不同的是,洗照片是放大,把小膠片放大到相紙上,光刻機是縮小,把電路圖縮小到晶圓上。
4、在光刻機領域,有三家國際大牌:荷蘭ASML(艾斯摩爾),日本Nikon(尼康),日本Canon(佳能)。但高端光刻機市場,荷蘭ASML是無可爭議的世界霸主,把第二名都甩得很遠,因為技術難度太高、需要的投資太大,尼康、佳能已經放棄EUV光刻機的研發。
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