euv光刻機原理
euv光刻機原理是接近或接觸式光刻通過無限靠近,複製掩模板上的圖案;直寫式光刻是將光束聚焦為一點,通過運動工件台或鏡頭掃描實現任意圖形加工。投影式光刻因其高效率、無損傷的優點,是集成電路主流光刻技術。
光刻機(MaskAligner)是製造微機電、光電、二極體大規模集成電路的關鍵設備。其分為兩種,一種是模板與圖樣大小一致的contactaligner,曝光時模板緊貼晶圓;另一種是利用類似投影機原理的stepper,獲得比模板更小的曝光圖樣。高端光刻機被稱為“現代光學工業之花”,製造難度很大,全世界只有少數幾家公司能製造。
高端的投影式光刻機可分為步進投影和掃描投影光刻機兩種,分辨率通常在十幾納米至幾微米之間,高端光刻機號稱世界上最精密的儀器,世界上已有7000萬美金的光刻機。高端光刻機堪稱現代光學工業之花,其製造難度之大,全世界只有少數幾家公司能夠製造。國外品牌主要以荷蘭ASML(鏡頭來自德國),日本Nikon(intel曾經購買過Nikon的高端光刻機)和日本Canon三大品牌為主。
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