光刻機是誰發明的
法國人Nicephore niepce。儘管光刻機發明的時間較早,但並沒有在各行業領域之中被使用,直到第2次世界大戰時,該技術應用於印刷電路板,所使用的材料和早期發明時使用的材料也已經有了極大區別,在塑料板上通過銅線路製作,讓電路板得以普及,短期之內就成為了眾多電子設備領域中關鍵材料之一。
光刻機:光刻機(Mask Aligner) 又名:掩模對準曝光機,曝光系統,光刻系統等,是製造芯片的核心裝備。它採用類似照片沖印的技術,把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印製到硅片上。
光刻機一般根據操作的簡便性分為三種,手動、半自動、全自動。
A手動:指的是對準的調節方式,是通過手調旋鈕改變它的X軸,Y軸和thita角度來完成對準,對準精度可想而知不高了;
B半自動:指的是對準可以通過電動軸根據CCD的進行定位調諧;
C自動:指的是從基板的上載下載,曝光時長和循環都是通過程序控制,自動光刻機主要是滿足工廠對於處理量的需要。
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