真空鍍膜時如何控制膜層的厚度

真空鍍膜時控制膜層厚度的方法有：

1、由時間和功率控制膜層的厚度：根據厚度等於時間乘以速率，改變功率以保證V接近常數，再通過時間來控制厚度；

2、石英晶體監控：監測晶振片的振動頻率，根據厚度與頻率的變化關係，計算當前厚度來控制；

3、光學監控：直接測量膜系的光學特性；

4、目測：肉眼觀測反射顏色來控制膜層厚度，誤差太大。