硅片清洗如何

硅片清洗有以下三種方法，具體如下：

①刷洗或擦洗:可除去顆粒污染和大多數粘在片子上的薄膜。

②高壓清洗：是用液體噴射片子表面，噴嘴的壓力高達幾百個大氣壓。高壓清洗靠噴射作用，片子不易產生劃痕和損傷。但高壓噴射會產生靜電作用，靠調節噴嘴到片子的距離、角度或加入防靜電劑加以避免。

③超聲波清洗：超聲波聲能傳入溶液,靠氣蝕作用洗掉片子上的污染。但是,從有圖形的片子上除去小於1微米顆粒則比較困難。將頻率提高到超高頻頻段，清洗效果更好。